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  氧化铈抛光粉(VK-Ce01)抛光粉因具有切削能力强,抛光效率高,抛光精度高,抛光质量好,操作环境清洁,污染小,使用寿命长等优点,而在光学精密抛光和CMP等领域占有极其重要的地位,其主要应用于以下领域:

  1.  眼镜、玻璃镜片抛光;

  2. 光学镜头、光学玻璃、透镜等;

  3. 手机屏玻璃、手表面(表门)等;

  4.  液晶显示器各类液晶屏;

  5.  水钻、烫钻(发卡,牛仔裤上的钻石)、灯饰球(大型大厅内的豪华吊灯);

  6.  水晶工艺品;

  7. 部分玉石的抛光

  目前氧化铈抛光的衍生:

  氧化铈表面掺铝以显著提高其抛光光学玻璃,因为通过多组分元素的复合可以调谐粒子性能 , 并通过表面修饰来提高抛光浆料的分散稳定性和抛光效率。掺杂 TiO2 的 CeO2粉体的制备和抛光性能 , 可以使抛光效率提高工作效率 50%以上 , 同时 , 表面缺陷也降低 80%。 CeO2 ZrO2 , SiO2 2CeO2 复合氧化物的协同抛光效果 ;因此 , 掺杂氧化铈微纳米复合氧化物的制备技术对于发展新型抛光材料,探讨抛光机制具有非常重要的意义。除了掺杂量外 , 掺杂物在合成粒子中的状态和分布对其表面特性和抛光性能的影响也非常大 。

  其中,具有包覆态结构的抛光粒子的合成更加引人瞩目。因此,合成方法及条件的选择也非常重要,尤其是那些简单易行成本又低的方法 。以水合碳酸铈为主要原料,采用湿固相机械化学法来合成铝掺杂氧化铈抛光粒子。在机械力作用下,水合碳酸铈大颗粒可以被解理成细小颗粒,而硝酸铝则与氨水反应形成无定形的胶体粒子。这种胶体粒子易于附着在碳酸铈颗粒上,经干燥和煅烧,可以在氧化铈表面实现铝的掺杂。采用这种方法合成了不同铝掺杂量的氧化铈粒子,并对其抛光性能进行了表征,适量铝掺入氧化铈粒子表面后,将导致表面电位负值的增大,进而使磨料颗粒间存在更强的静电斥力,促进磨料悬浮稳定性提高。与此同时,磨料粒子与带正电荷的软质层之间的通过库仑引力的相互吸附作用也将加强,有利于磨料与被抛玻璃表面软质层的相互接触 , 促进抛光速率的提高。


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